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第19章 用光刻还是冰刻（第1页）

好嘛，这倒是大意了。

一时间，会议室内的众人有点尴尬。不过不会可以学嘛，而且你既然作为曾经的二把手，以后要学的东西会越来越多。

最后苏云欣顺利拿到了所有资料，当晚就开始着手研究。

苏云欣喝了一口红糖水，托着小脑袋，考虑着到底是要光刻还是冰刻。

光刻机实际上并不是用激光来雕刻芯片，名字里有个“刻”字，但实际工作流程并不涉及“刻”的过程。

芯片生产用光刻机的工作更像是留影机，把掩膜板上的图案照射到涂在晶圆上的光刻胶上，让胶片曝光。

光刻机只是完成曝光，不进行光刻。

之后交接给蚀刻机，蚀刻机才是要完成刻的工作。使用极紫外光等方式雕刻电子线路。

而在其中光刻胶至关重要。

传统光刻机涂抹在晶圆上的这一过程中极易受到厚度、均匀程度等影响，从而影响良品率。

而冰刻在真空环境中，由于水自身的特性，它可以完美地包裹住晶圆，从而避免传统光刻胶可能导致的种种问题。

但是冰刻机的雕刻工艺需要非常细致。

“如果可以用高强度离子束替代电子束。冰刻会不会更好呢？”苏云欣有节奏的转着笔。

哎，有时候方案太多也是一种烦恼，都要选择困难症了。

“系统，你有什么建议吗？”

[#-_-都可以啦，就这么个光刻机，有啥纠结的。]

[倒是有个捷径，离子束直接混合灵子，离子度将再次加，离子束变的越尖锐。不过，我怕你把握不好。]

“诶？你这样不相当于微型激光武器了吗？”

[是啊，如果是1pm（皮米），只有这样才理想，你之前都是1nm后直接跳硅基芯片了。]

“硅基芯片不是更好么？”

[-_-||所以说你对碳基硅基的认知太片面了，而且目前你对于灵子的理解也很肤浅。你目前对灵子的应用差不多就跟蓝星目前对核原子的应用水平差不多。]

“TaT有没有这么差啊，我们之前不好歹也冲到四级文明了吗？”

[你知道你偏科有多严重吗？你之前到最后文明程度是3-6之间，有些技术甚至不如一个高级二级文明。]

还是以后再尝试吧，目前还是稳妥一点用等离子体蚀刻。

通过加强能量注入缩短euV极紫外光波长，对于目前苏云欣而言，能量损耗无所谓，后期再进行优化。

随着一道道密密麻麻的公式，一步步严密的演算，一张张阵亡的a4纸。

最终，波长缩短到了5.5nm，达到了极紫外光与伦琴射线的中间值。虽然良品率可能一般，但是1nm肯定是能搞定的。

光刻机的另外一个难点是光学器件。很多人认为只有德意志的菜思镜片才是完美的镜片。